化学抛光是一种通过有规则溶解金属表面达到光亮平滑的技术。在该过程中，钢铁零件表面会形成钝化氧化膜和氧化膜，前者优于后者并且不断溶解。由于表面微观的不一致性，微观凸起部分会优先溶解并且溶解速率大于凹下部分。膜的溶解和形成始终同时进行，从而整平钢铁零件表面粗糙度，获得平滑光亮的表面。抛光可以填充表面的毛孔、划痕和其它表面缺陷，提高疲劳阻力和腐蚀阻力。为了实现化学抛光效果，必须使零件表面的凸部比凹部优先溶解，因此将化学抛光的作用分为两个阶段：宏观抛光或平滑化和微观抛光或光泽化。化学抛光原理与利用电流作用的电解抛光本质上相同，但效果一般要差于电解抛光。这是因为材料的质量不均匀会引起局部电位高低不一，产生局部阴阳极区，形成局部短路的微电池，使阳极发生局部溶解。而电解抛光没有这个问题，效果更好。